Vezető: Kocsányi László

A felületi nanoszerkezetek fejlesztésében kulcs szerepet játszik a felület összetételének ismerete. Az analitikai berendezések zöme legalább nagyvákuumhoz kötött, így a vizsgálat nehézkes. Célunk olyan berendezések és eljárások kifejlesztése és kalibrálása, melyek a felületi összetételt, adalékkoncentrációt vákuumtól függetlenül, in situ képesek meghatározni. Két ilyen eljárás és berendezés kutatását és fejlesztését tervezzük vizsgálni, az egyik a foto-modulált reflexiómérő (PMR) eljárás, melynek segítségével félvezetőkön kialakított ultra sekély ion-implantált rétegek (32-64 nm) paramétereit (pl. adalékkoncentráció) lehet meghatározni a másik pedig egy univerzális analitikai berendezés, a lézeres gerjesztéssel létrehozott letörési spektroszkópia (LIBS) felületi összetétel meghatározására. Utóbbi alkalmazási területeit is tervezzük kutatni, Köztük kiemelten a felületi nanostruktúrák létrehozásában jelentős szerepet játszó lézeres technológiák (tisztítás, marás, nanomegmunkálás) minősítését. A kalibráláshoz és minősítéshez igénybe vesszük analitikai (XPS, SIMS) és morfológiai (SEM, FORM-TALYSURF) berendezéseinket.